1、光敏性原理

光刻膠的基本原理是光敏材料暴露在紫外線下，光線將光敏材料中的分子激活，使其發生化學反應，使光敏膠發生預設的變化。根據光線能量的不同，光刻膠可分為UV光刻膠和深紫外光刻膠。UV光刻膠用于制造精度要求低的電子元件，而深紫外光刻膠則用于制造更微小的元器件。

2、光學成像原理

光刻膠是通過光學成像原理來實現預期的紋理結構。當光照射在光刻膠表面時，會通過掩膜上的白色區域透過黑色區域，達到將圖案映射到光刻膠上的目的。通過開發過程，只剩下光刻膠上所需的微型器件的部分區域，即可形成要制造的微型器件。

3、選擇適合的溶劑

光刻膠的成分包括光敏材料、單體、溶劑和劑量。反應關鍵因素之一是選擇適合系統的溶劑，溶劑是優化反應速率和接觸角的關鍵因素。正確的溶劑選擇可確保強大的粘附力和最小的溶液浸透時間。